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德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統及清洗注意事項
時間：2016-10-21 來源： 北京德高潔清潔設備有限公司
目前，隨著光伏產業的快速發展，對多晶硅的需求量也日趨增大。在多晶硅生產設備中，還原爐是整個生產系統的關鍵部件，多晶硅生產企業要實現節能降耗就必須嚴格把控還原爐的運行。
眾所周知，對還原爐內壁進行清洗處理，就是降低能耗的一種有效的方式，通過提高還原爐內壁光潔度及光亮度，使還原爐在硅棒生長過程中，爐壁在高溫狀態下，對熱輻射反射率的最大化，從而起到降低能耗的作用。
德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統是以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內部表面的水力掃射，并采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，之后再采用高純水沖洗，最終完成清洗過程。
一、工作流程
還原爐鐘罩到位—預清洗—清洗劑(堿液)清洗—漂洗—高純水沖洗—凈化熱空氣干燥—常溫干燥—鐘罩吊走。
二、系統特點
1、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統采用進口高壓泵，耐酸堿、耐高溫。清洗作業時三維旋轉噴頭實現自驅動旋轉、自動升降、全方位自動清洗，保證多晶硅的純度；
2、設置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝；
3、自行研發設計的自驅動旋轉升降噴射機構，一套系統實現多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干；
4、由于清洗過程中會有氫氣和酸性物質產生，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染；
5、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統充分利用資源，設計了高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置，并進行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序；利用多晶硅生產廠家的蒸汽余熱將清洗介質加熱，從而改變原電加熱工藝。
三、注意事項
多晶硅還原爐內的殘留物及清洗液具有腐蝕性，同時清洗中殘留氯硅烷會發生水解伴有氫氣產生，容易產生爆鳴燃燒。因此，現場操作中，需要做好安全防護措施。
1、清洗過程中必須穿戴好勞保用品，戴防護手套；
2、用氫氧化鈉溶液擦洗基盤時操作要緩慢，以免摩擦生熱引起著火；
3、基盤清洗過程中要避免溶液流進進料管和尾氣管內造成二次污染，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染的問題；
4、清洗中要保證將鐘罩烘烤干，避免有殘留水分；
5、清洗劑的選擇對清洗效果和作業安全有直接影響，這方面我公司積累了豐富的實踐經驗解決閃爆等問題。
- 標簽：
- 鐘罩
- 多晶硅
- 還原爐
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